●vblL010-02153 0217
2002

部署名　　：ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー
設置場所　：ＶＢＬ棟

装置名称　：マスクアライナ
型式　　　：カールズース　SUSS　MJB3-UV40

導入年月日：1997/2/20
導入金額　：19,982,000

装置の概要
　フォトリソグラフィーによる微細加工プロセスにおいて，紫外線を照射する装置。

装置の原理
　波長分散が小さく，極めて平行度の良い紫外線をフォトマスクを通し，レジストを塗布した加工物に照射し，フォトマスクのパターンを加工物に一括転写する。

共同利用について
　現在，共同利用を行っている。

共同利用に際しての注意
　クリーンな環境での利用。試料もクリーンでかつ平坦度の良いことが必要。ベンチャー・ビジネス・ラボラトリーに研究登録し，毎年度研究成果を報告する必要がある。

必要経費
　フォトマスク，フォトレジスト等の消耗品については，利用者各自が負担。

装置担当者
所属　：工学部　機能材料工学科　材料設計工学
氏名　：山本　節夫
内線　：9621
E-mail：yamamoto@po.cc.yamaguchi-u.ac.jp